Hard amorphous CSixNy thin films deposited by RF nitrogen plasma assisted pulsed laser ablation of mixed graphite/Si3N4-targets

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Thin solid films 1999-07, Vol.348 (1-2), p.103-113
Hauptverfasser:	THÄRIGEN, T, LIPPOLD, G, SZARGAN, R, RIEDE, V, LORENZ, M, KOIVUSAARI, K. J, LORENZ, D, MOSCH, S, GRAU, P, HESSE, R, STREUBEL, P
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Laser deposition Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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