Gate-dielectric permitivity and metal-gate work-function tradeoff in Lmet = 25 nm PDSOI device characteristics

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:IEEE electron device letters 2006-06, Vol.27 (6), p.505-507
Hauptverfasser: DECHAO GUO, BRYANT, Andres, XINLIN WANG, NARASIMHA, Shreesh, MILLER, Robert, KHARE, Mukesh
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0741-3106
1558-0563
DOI:10.1109/LED.2006.875757