Extreme ultraviolet lithography capabilities at the advanced light source using a 0.3-NA optic : Extreme ultraviolet coherent sources and applications

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	IEEE journal of quantum electronics 2006, Vol.42 (1-2), p.44-50
Hauptverfasser:	NAULLEAU, Patrick, GOLDBERG, Kenneth A, CAIN, Jason P, ANDERSON, Erik H, DEAN, Kim R, DENHAM, Paul, HOEF, Brian, JACKSON, Keith H
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Fundamental areas of phenomenology (including applications) Interfaces Lithography, masks and pattern transfer Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Optical sources and standards Optics Physics Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices Visible and ultraviolet sources
Online-Zugang:	Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:	0018-9197 1558-1713