DUV laser-induced deposition of a-C:H from CH2I2 at room temperature

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	LINDSTAM, M, BOMAN, M, PIGLMAYER, K
Format:	Tagungsbericht
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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