High uniformity enhancement- and depletion-mode InGaP/InGaAs pHEMTs using a selective succinic acid gate recess process

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Veröffentlicht in:Semiconductor science and technology 2006-01, Vol.21 (1), p.55-59
Hauptverfasser: Chiu, Hsien-Chin, Cheng, Chia-Shih, Shih, Yuan-Jui
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0268-1242
1361-6641
DOI:10.1088/0268-1242/21/1/010