Atmospheric pressure plasma enhanced CVD (AP-PECVD)

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Chemical vapor deposition 2005-12, Vol.11 (11-12)
1. Verfasser:	HITCHMAN, Michael L
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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