Photocatalytic degradation rate of oxalic acid on the semiconductive layer of n-TiO2 particles in the batch mode plate reactor. Part I : Mass transfer limits

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Veröffentlicht in:Journal of applied electrochemistry 1998-08, Vol.28 (8), p.843-853
Hauptverfasser: KULAS, J, ROUSAR, I, KRYSA, . J, JIRKOVSKY, J
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-891X
1572-8838
DOI:10.1023/A:1003492510056