Photocatalytic degradation rate of oxalic acid on the semiconductive layer of n-TiO2 particles in the batch mode plate reactor. Part I : Mass transfer limits
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Veröffentlicht in: | Journal of applied electrochemistry 1998-08, Vol.28 (8), p.843-853 |
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Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0021-891X 1572-8838 |
DOI: | 10.1023/A:1003492510056 |