The origin of extended dislocations induced by high-dose ion implantation : Materials-related manufacturing issues in the nanochip era

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	IEEE transactions on semiconductor manufacturing 2005, Vol.18 (1), p.19-25
Hauptverfasser:	TSUCHIYA, Norihiko, FUJII, Osamu, UMEZAWA, Kaori, IWASE, Masao, USHIKU, Yukihiro
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
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