Novel MOCVD approach to the low pressure in situ growth of TlBa2CaCu2O7 films

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: MALANDRINO, Graziella, PERDICARO, Laura M. S, FRAGALA, Ignazio L, CASSINESE, Antonio, PRIGIOBBO, Antonio
Format: Tagungsbericht
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0921-4534
1873-2143