Modelling of the influence of charges trapped in the oxide on the I(Vg) characteristics of metal–ultra-thin oxide–semiconductor structures

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Veröffentlicht in:Semiconductor science and technology 2004-07, Vol.19 (7), p.877-884
Hauptverfasser: Aziz, A, Kassmi, K, Kassmi, Ka, Olivie, F
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0268-1242
1361-6641
DOI:10.1088/0268-1242/19/7/017