Modelling of the influence of charges trapped in the oxide on the I(Vg) characteristics of metal–ultra-thin oxide–semiconductor structures
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Semiconductor science and technology 2004-07, Vol.19 (7), p.877-884 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | |
---|---|
ISSN: | 0268-1242 1361-6641 |
DOI: | 10.1088/0268-1242/19/7/017 |