Crystallization of amorphous Si films by pulsed laser annealing and their structural characteristics

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Veröffentlicht in:	Semiconductor science and technology 2004-06, Vol.19 (6), p.759-763
Hauptverfasser:	Peng, Y C, Fu, G S, Yu, W, Li, S Q, Wang, Y L
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Cross-disciplinary physics: materials science rheology Electronics Exact sciences and technology Materials science Nanocrystalline materials Nanoscale materials and structures: fabrication and characterization Physics
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