Micro-Raman spectroscopic investigation of NiSi films formed on BF+2-, B+ - and non-implanted (100)Si substrates

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Veröffentlicht in:Applied physics. A, Materials science & processing Materials science & processing, 2004-08, Vol.79 (3), p.637-642
Hauptverfasser: DONTHU, S. K, CHI, D. Z, TRIPATHY, S, WONG, A. S. W, CHUA, S. J
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0947-8396
1432-0630
DOI:10.1007/s00339-002-2067-3