Plasma-enhanced atomic layer deposition of SrTa2O6thin films using Sr[Ta(OC2H5)5(OC2H4OCH3)]2 as precursor

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2004, Vol.151 (5), p.C292-C286
Hauptverfasser:	SHIN, Woong-Chul, RYU, Sang-Ouk, YOU, In-Kyu, YU, Byoung-Gon, LEE, Won-Jae, CHOI, Kyu-Jeong, YOON, Soon-Gil
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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