Low temperature TiN deposition by ICP-assisted chemical vapor deposition

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	LEE, Dong-Kak, LEE, Jung-Joong, JOO, Junghoon
Format:	Tagungsbericht
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Exact sciences and technology Metals. Metallurgy Production techniques Surface treatment
Online-Zugang:	Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:	0257-8972