Properties of SiO2 and Al2O3 films for electrical insulation applications deposited by reactive pulse magnetron sputtering

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	BARTZSCH, H, GLÖSS, D, BÖCHER, B, FRACH, P, GOEDICKE, K
Format:	Tagungsbericht
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Exact sciences and technology Metals. Metallurgy Production techniques Surface treatment
Online-Zugang:	Volltext
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