Influence of sputtering conditions on the structure and properties of Ti-Si-N thin films prepared by r.f.-reactive sputtering

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	NOSE, M, DEGUCHI, Y, MAE, T, HONBO, E, NAGAE, T, NOGI, K
Format:	Tagungsbericht
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Exact sciences and technology Metals. Metallurgy Production techniques Surface treatment
Online-Zugang:	Volltext
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