Implantation angle dependent study of vacancy related defect profiles in ion implanted silicon

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: LAY, M. D. H, MCCALLUM, J. C, JAGADISH, C
Format: Tagungsbericht
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0921-4526
1873-2135