Interstitial H2 in Si: are all problems solved?

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: STAVOLA, Michael, CHEN, E. Elinor, FOWLER, W. Beall, SHI, G. Alvin
Format: Tagungsbericht
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0921-4526
1873-2135