Effect of tilt angle variations in a halo implant on Vth values for 0.14-μm CMOS devices

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	IEEE transactions on semiconductor manufacturing 2003-11, Vol.16 (4), p.653-655
Hauptverfasser:	SANTIESTEBAN, Ramon S, ABELN, Glenn C, BEATTY, Timothy E, RODRIGUEZ, Osvaldo
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices Transistors
Online-Zugang:	Volltext
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