Thermal Nitridation of Chemical Dielectrics as an Easy Approach to Ultra-thin Gate Oxide Processing

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Bidaud, M., Carrere, J.P., Guyader, F., Juhel, M., Pantel, R.
Format:	Tagungsbericht
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Chemical processes Dielectrics Electronics Exact sciences and technology Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices Transistors
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