Thick SiO2 films obtained by plasma-enhanced chemical vapor deposition using hexamethyldisilazane, carbon dioxide, and hydrogen

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2000-07, Vol.147 (7), p.2679-2684
Hauptverfasser:	KUO, D.-H, YANG, D.-G
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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