Proximity correction simulations in ultra-high resolution x-ray lithography

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of physics. D, Applied physics Applied physics, 2001-11, Vol.34 (22), p.3209-3213
Hauptverfasser:	Bourdillon, A J, Boothroyd, C B
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
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