Atomic layer deposition of Al2O3 thin films using trimethylaluminum and isopropyl alcohol

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2002-06, Vol.149 (6), p.C306-C310
Hauptverfasser:	JEOU, Woo-Seok, SUNG YANG, LEE, Choon-Soo, KANG, Sang-Won
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics Vapor phase epitaxy growth from vapor phase
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