Laser-induced fluorescence detection and kinetics of SiH2 radicals in Ar/H2/SiH4 RF discharges

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Veröffentlicht in:	Journal of physics. D, Applied physics Applied physics, 2000-02, Vol.33 (4), p.381-388
Hauptverfasser:	Hertl, Michael, Jolly, Jacques
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Electric discharges Exact sciences and technology Glow corona Physics Physics of gases, plasmas and electric discharges Physics of plasmas and electric discharges Plasma applications
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