Growth process and interfacial structure of epitaxial Y2O3/Si thin films deposited by pulsed laser deposition

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KAKUNO, Kosuke, ITO, Daisuke, FUJIMURA, Norifumi, MATSUI, Toshiyuki, ITO, Taichiro
Format: Tagungsbericht
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0022-0248
1873-5002