Surface chemical analysis: Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total reflection x-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Surface and interface analysis 2002, Vol.33 (4), p.369-370
1. Verfasser:	GOHSHI, Yohichi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Analytical chemistry Chemistry Exact sciences and technology Spectrometric and optical methods
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!