Study of conditions for anisotropic plasma etching of tungsten and tungsten nitride using SF6/Ar gas mixtures

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2002-03, Vol.149 (3), p.G179-G183
Hauptverfasser:	REYES-BETANZO, C, MOSHKALYOV, S. A, RAMOS, A. C, DINIZ, J. A, SWART, J. W
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Physics Surface treatments
Online-Zugang:	Volltext
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