Effects of chloride, bromide and iodide ions on internal stress in films deposited during high speed nickel electroplating from a nickel sulfamate bath

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of applied electrochemistry 2000, Vol.30 (2), p.231-238
Hauptverfasser:	TSURU, Y, NOMURA, M, FOULKES, F. R
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemistry Electrochemistry Electrodeposition Exact sciences and technology General and physical chemistry Study of interfaces
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!