Experimental study of Si3N4 viscosity for calibration of stress-dependent models of silicon oxidation

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1999-11, Vol.146 (11), p.4226-4229
Hauptverfasser:	LOIKO, K. V, PEIDOUS, I. V, YUE ZU, HO, H.-M
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Electronics Exact sciences and technology Materials Mechanical and acoustical properties Physical properties of thin films, nonelectronic Physics Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties)
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