Electrochemical test for silicon surface contamination by copper traces in HF, HF+HCl and HF+NH4F dilute solutions

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Semiconductor science and technology 2000-02, Vol.15 (2), p.121-125
Hauptverfasser:	Bertagna, Valérie, Rouelle, François, Erre, René, Chemla, Marius
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Cross-disciplinary physics: materials science rheology Electronics Exact sciences and technology Materials Materials science Physics Surface cleaning, etching, patterning Surface treatments
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