Helicon plasma source for ionized physical vapor deposition

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	HAVDEN, D. B, JULIANO, D. R, NEUMANN, M. N, ALLAIN, M. C, RUZIC, D. N
Format:	Tagungsbericht
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Deposition by sputtering Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
Online-Zugang:	Volltext
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