Inductively coupled plasma etching of Ta2O5

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1999-10, Vol.146 (10), p.3794-3798
Hauptverfasser:	LEE, K.-P, JUNG, K. B, SINGH, R. K, PEARTON, S. J, HOBBS, C, TOBIN, P
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Physics Surface cleaning, etching, patterning Surface treatments
Online-Zugang:	Volltext
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