Photoelectrochemical Properties of N-Incorporated ZnO Films Deposited by Reactive RF Magnetron Sputtering

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 2007, Vol.154 (9), p.B956
Hauptverfasser: Ahn, Kwang-Soon, Yan, Yanfa, Lee, Se-Hee, Deutsch, Todd, Turner, John, Tracy, C. Edwin, Perkins, Craig L., Al-Jassim, Mowafak
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
1945-7111
DOI:10.1149/1.2754074