Chemical States And Electrical Properties of a High-K Metal Oxide/Silicon Interface With Oxygen-Gettering Titanium-Metal-Overlayer

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied physics letters 2007-08, Vol.89
Hauptverfasser: Seo, K.-I., /Stanford U., Materials Sci. Dept, Lee, D.-I., Pianetta, P., /SLAC, SSRL, Kim, H., /Sungkyunkwan U., Saraswat, K.C., /Stanford U., Elect. Eng. Dept, McIntyre, P.C.
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0003-6951
1077-3118