Structure and low temperature relaxation of ion implanted germanium

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of synchrotron radiation 2002-02, Vol.8
Hauptverfasser:	Glover, C.J., Ridgway, M.C., Yu, K.M., Foran, G.J., Desnica-Frankovic, D., Clerc, C., Hansen, J.L., Nylandsted-Larsen, A.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	GERMANIUM ION IMPLANTATION MATERIALS SCIENCE MICROSTRUCTURE STRESS RELAXATION TEMPERATURE DEPENDENCE
Online-Zugang:	Volltext
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