Remote plasma-enhanced chemical vapour deposition of silicon nitride at atmospheric pressure

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Plasma sources science & technology 2002-02, Vol.11 (1), p.97-103
Hauptverfasser:	Nowling, G R, Babayan, S E, Jankovic, V, Hicks, R F
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	70 PLASMA PHYSICS AND FUSION TECHNOLOGY ATMOSPHERIC PRESSURE DEPOSITION Electric discharges ENVIRONMENTAL SCIENCES Exact sciences and technology Glow corona Physics Physics of gases, plasmas and electric discharges Physics of plasmas and electric discharges Plasma applications Plasma diagnostic techniques and instrumentation SILICON NITRIDES
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