Synergistic etch rates during low-energetic plasma etching of hydrogenated amorphous carbon
The etch mechanisms of hydrogenated amorphous carbon thin films in low-energetic (
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Veröffentlicht in: | Journal of applied physics 2012-07, Vol.112 (1) |
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Hauptverfasser: | , , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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Zusammenfassung: | The etch mechanisms of hydrogenated amorphous carbon thin films in low-energetic ( |
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ISSN: | 0021-8979 1089-7550 |
DOI: | 10.1063/1.4730924 |