Synergistic etch rates during low-energetic plasma etching of hydrogenated amorphous carbon

The etch mechanisms of hydrogenated amorphous carbon thin films in low-energetic (

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of applied physics 2012-07, Vol.112 (1)
Hauptverfasser: Hansen, T. A. R., Weber, J. W., Colsters, P. G. J., Mestrom, D. M. H. G., van de Sanden, M. C. M., Engeln, R.
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:The etch mechanisms of hydrogenated amorphous carbon thin films in low-energetic (
ISSN:0021-8979
1089-7550
DOI:10.1063/1.4730924