Morphology and Growth Habit of the New Flux-Grown Layered Semiconductor KBiS 2 Revealed by Diffraction Contrast Tomography

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Crystal growth & design 2022-05, Vol.22 (5), p.3228-3234
Hauptverfasser: Qu, Kejian, Bale, Hrishikesh, Riedel, Zachary W., Park, Junehu, Yin, Leilei, Schleife, André, Shoemaker, Daniel P.
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
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ISSN:1528-7483
1528-7505
DOI:10.1021/acs.cgd.2c00078