Thermal adsorption-enhanced atomic layer etching of Si 3 N 4

Thermal adsorption-enhanced atomic layer etching of Si 3 N 4

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films Vacuum, surfaces, and films, 2018-01, Vol.36 (1)
Hauptverfasser: Kim, Woo-Hee, Sung, Dougyong, Oh, Sejin, Woo, Jehun, Lim, Seungkyu, Lee, Hyunju, Bent, Stacey F.
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Materials Science
Physics
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:Not provided.
ISSN:0734-2101
1520-8559
DOI:10.1116/1.5003271