Role of neutral transport in aspect ratio dependent plasma etching of three-dimensional features

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films Vacuum, surfaces, and films, 2017-09, Vol.35 (5)
Hauptverfasser: Huard, Chad M., Zhang, Yiting, Sriraman, Saravanapriyan, Paterson, Alex, Kushner, Mark J.
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
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Beschreibung
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ISSN:0734-2101
1520-8559
DOI:10.1116/1.4973953