Thermal adsorption-enhanced atomic layer etching of Si 3 N 4

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films Vacuum, surfaces, and films, 2018-01, Vol.36 (1)
Hauptverfasser:	Kim, Woo-Hee, Sung, Dougyong, Oh, Sejin, Woo, Jehun, Lim, Seungkyu, Lee, Hyunju, Bent, Stacey F.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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