Triangular Elastomeric Stamps for Optical Applications: Near-Field Phase Shift Photolithography, 3D Proximity Field Patterning, Embossed Antireflective Coatings, and SERS Sensing

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced functional materials 2012-04, Vol.22 (14)
Hauptverfasser: Bowen, Audrey M., Motala, Michael J., Lucas, J. Matthew, Gupta, Sidhartha, Baca, Alfred J., Mihi, Agustin, Alivisatos, A. Paul, Braun, Paul V., Nuzzo, Ralph G.
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1616-301X
1616-3028
DOI:10.1002/adfm.201102455