Influence of sputtering gas pressure on the LiCoO2 thin film cathode post-annealed at 400？oC

Influence of sputtering gas pressure on the LiCoO2 thin film cathode post-annealed at 400？oC

KCI Citation Count: 11

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:The Korean journal of chemical engineering 2006, 23(5), 104, pp.832-837
Hauptverfasser: 남상철, 박호영, Young Chang Lim, Kyu Gil Choi, Ki Chang Lee, Gi Back Park, Heesook Park Kim, Sung Baek Cho
Format: Artikel
Sprache:kor
Schlagworte:
화학공학
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:KCI Citation Count: 11
ISSN:0256-1115
1975-7220