Dry etching of SrBi2Ta2O9: Comparison of inductively coupled plasma chemistries

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	The Korean journal of chemical engineering 2002, 19(3), 86, pp.486-490
Hauptverfasser:	Park, Jin Su, Kim, Tae Hee, Choi, Chang Sun, Hahn, Yoon-Bong
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	화학공학
Online-Zugang:	Volltext
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