軟口蓋発生メカニズムの解明

口蓋裂は，高頻度で発症する顔面奇形である。口蓋裂を伴って出生すると，哺乳障害に始まり咀嚼および発音機能，審美性の回復など様々なハードルを超えなくてはならない。治療は複雑で長期に及ぶため，各ステップで臨床専門家によるチームアプローチが必至である。我々小児歯科医は，このチームの一員として大変重要な立場にいる。一方で，口蓋裂という疾患を考えるとき，この疾患の病因を明らかにする基礎的研究もまた，忘れてはならない。ヒトにおける口蓋裂の裂形は，完全口蓋裂・口唇裂や歯槽裂を伴うもの，軟口蓋裂でも粘膜下口蓋裂や二分垂裂など多様である。我々は，ヒト口蓋裂疾患の中でも，軟口蓋裂発症メカニズムの解明を目的とし，特に軟口蓋発生に着目して解析を行ってきた。口蓋発生初期には，口蓋間葉は神経堤細胞によって形成されている。軟口蓋領域には遅れて，中胚葉由来の骨格筋細胞が遊走し，2 つの細胞間相互作用によって口蓋筋群が形成される。我々は，まず，軟口蓋領域に特徴的に発現する遺伝子を網羅的に解析するため，口蓋組織前後でのマイクロアレイによる比較解析を施行した。その中から細胞外基質であるPeriostin に着目し，組織学的な発現解析を行い，軟口蓋領域の神経堤細胞には，Periostin の発現が特徴的に発現していること，またこの発現は，TGF-β シグナルによって制御されていることを明らかとした。