18 赤外線吸収スペクトル法によるふつ化物局所塗布がエナメル質表層下脱灰に及ぼす影響の検討

さきに赤外線吸収スペクトルにより, 人工的エナメル質表層下脱灰部の分析を行ない, その結果について報告した. 即ちエナメル質表層下脱灰部においては波数3400cm-1附近に最も変化がみられ, 脱灰日数の経過と共に吸収が強くなるのが認められた. 今回は以上の分析結果を基礎にして, 新鮮抜去歯牙を用い歯科臨床で一般に使用されている2%NaFと2%NaF-P溶液の局所塗布を行ないSperber ef alの方法により脱灰操作を加えた. これらのin vitroでのエナメル質脱灰試料について, ふつ化物のエナメル質表層下脱灰への影響を最も変化のみられた波数 3400cm-1附近での吸収スペクトルによつてエナメル質表層と表層下脱灰部の分析を行ない検討を試みた. 即ちin vitroで形成したエナメル質脱灰試料についてふつ化物の影響をX線回折法, 化学分析法ではとらえ難い反応を赤外線吸収スペクトルによりとらえ, エナメル質表層での吸収スペクトルよりふつ素とエナメルアパタイトの間に起る複分解反応が示唆された. 更にふつ化物塗布により脱灰の初期段階で表層下脱灰が抑制される事が認められた.