Mask innovations on the eve of high NA EUV lithography

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 2024-04, Vol.63 (4)
Hauptverfasser:	Philipsen, Vicky, Frommhold, Andreas, Thakare, Devesh, Libeert, Guillaume, Lee, Inhwan, Franke, Joern-Holger, Bekaert, Joost, Van Look, Lieve, Pellens, Nick, De Bisschop, Peter, Jonckheere, Rik, Kovalevich, Tatiana, Wiaux, Vincent, Hendrickx, Eric
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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