Impact of vacuum ultraviolet photons on ultrathin polymethylmethacrylate during plasma etching

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal Of Vacuum Science & Technology A 2024-05, Vol.42 (3)
Hauptverfasser:	Arvind, Shikhar, Larsen, Esben W, Bezard, Philippe, Petersen, John, De Gendt, Stefan
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:	0734-2101