e-beam metrology of thin resist for high NA EUVL

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 2023-06, Vol.62 (SG)
Hauptverfasser:	Lorusso, Gian Francesco, De Simone, Danilo, Zidan, Mohamed, Severi, Joren, Moussa, Alain, Dey, Bappaditya, Halder, Sandip, Goldenshtein, Alex, Houchens, Kevin, Santoro, Gaetano, Fischer, Daniel, Muellender, Angelika, Mack, Chris, Kondo, Tsuyoshi, Shohjoh, Tomoyasu, Ikota, Masami, Charley, Anne-Laure, De Gendt, Stefan, Leray, Philippe
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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