Robust formation of ferroelectric HfO2 films by Y2O3 sub-monolayer lamination

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied physics express 2022-12, Vol.15 (12)
Hauptverfasser:	Mizutani, Kazuto, Hoshii, Takuya, Wakabayashi, Hitoshi, Tsutsui, Kazuo, Chang, Edward Y., Kakushima, Kuniyuki
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	ferroelectric HfO laminated
Online-Zugang:	Volltext
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